濺射鍍膜铌靶材表麵產(chan) 生紋路的原因

發布時間：

2024-02-27

　　铌靶材主要應用於(yu) 光學鍍膜、表麵工程材料鍍膜及耐熱、耐腐蝕高導電等鍍膜行業(ye) 。在光學鍍膜領域，主要應用於(yu) 眼科光學產(chan) 品、鏡頭、精密光學、大麵積鍍膜、3D鍍膜等方麵。

　　铌靶材通常稱為(wei) 裸靶，首先將其與(yu) 銅背靶進行焊接，然後進行濺射，將铌原子以氧化物形式澱積在基板材料上，實現濺射鍍膜。隨著铌靶材技術與(yu) 應用的不斷深入與(yu) 拓展，對铌靶材的組織均勻性要求提高，主要表現在晶粒尺寸細化、無明顯織構取向和化學純度提高三個(ge) 方麵。

　　整靶組織性能分布均勻，這對保證铌靶材的濺射性能至關(guan) 重要。工業(ye) 生產(chan) 中遇到的铌靶材表麵通常會(hui) 出現規律性紋路，這會(hui) 大大影響靶材的濺射性能，我們(men) 該如何提高靶材利用率呢?

　　經研究發現，雜質含量(靶材純度)是影響純度的重要原因。原材料的化學成分不均，雜質富集，經過後期的軋製加工，形成铌靶材表麵有規律的紋路; 消除原材料成分分布不均和雜質富集，可避免铌靶材表麵有規律紋路的形成。而晶粒大小跟組織成分對靶材的影響幾乎是可以忽略不計的。